光纖光柵由于在光通訊、光纖傳感及集成光學(xué)等領(lǐng)域具有巨大的應(yīng)用前景而受到廣泛關(guān)注，目前國內(nèi)外對光纖光柵制作技術(shù)的研究也很活躍。光纖光柵制作技術(shù)的研究目標是要做到寫入效率高、對光源的相干性要求低、便于工業(yè)化生產(chǎn)。

到目前為止，光纖光柵的寫入方法大致分為內(nèi)部寫入法、干涉法、逐點寫入法以及相位掩模板寫入法。其中，相位掩模板法由于其具有工藝簡單、重復(fù)性好、成品率高、便于大規(guī)模生產(chǎn)、光柵周期與曝光用的光源波長無關(guān)等優(yōu)點，得到了廣泛的應(yīng)用。

1.1     光纖材料的紫外增敏技術(shù)

采用適當?shù)墓庠春凸饫w增敏技術(shù)，可以在幾乎所有種類的光纖上不同程度的寫入光柵。所謂光纖中的光折變是指激光通過光敏光纖時，光纖的折射率將隨光強的空間分布發(fā)生相應(yīng)的變化，如這種折射率變化呈現(xiàn)周期性分布，并被保存下來，就成為光纖光柵。

光纖的光敏性是在光纖中形成Bragg光柵的關(guān)鍵，光纖中折射率依賴于許多參數(shù),如光纖類型、摻雜濃度、光纖溫度及光纖以前的歷史，以及照射波長、曝光功率及曝光時間等等。如果不經(jīng)過其它處理，光纖直接對紫外光曝光，折射率僅能增加到10^-4數(shù)量級便已飽和，這樣小的調(diào)制在某些場合是不適用的。

光纖的光敏性與GeO空位缺陷有密切關(guān)系，鍺缺陷的增加有助于光敏特性的提高。增加光纖的光敏性，可選用以下幾種處理方法:

(1) 多種摻雜

在鍺硅光纖材料中，摻入B、Sn或Al等元素可提高光纖材料的光敏性，其中以B/Ge雙摻雜光纖材料的光敏性最強，其光敏性要比含鍺量相當?shù)膯螕芥N光纖材料高出約一個數(shù)量級。這些光纖都可采用MCVD技術(shù)生產(chǎn)。 表3.1給出了四種不同類型光纖的相對光敏性比較結(jié)果。

表3. SEQ 表3. \* ARABIC 1 四種不同類型光纖的相對光敏性比較

光纖種類	光纖△n	飽和折射率 調(diào)制	2mm光柵的 最大反射率	反射達飽和時 所需時間
標準光纖 (摻Ge約4mol%)	0.005	3.4×10 <<<1234>>> 上一篇：結(jié)構(gòu)健康監(jiān)測中光纖光柵傳感技術(shù)（二）光纖光柵基本原理2 下一篇：儀器儀表精度等級的劃分標準 收藏 打印          粵ICP備14014482號-1 Copyright ? 2013-2015 深圳市簡測智能技術(shù)有限公司 版權(quán)所有 簡測智能淘寶店：shop115087619.taobao.com 公司地址：深圳市南山區(qū)學(xué)府路1號

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